NF3

常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，為一種強氧化劑。在微電子工業中是一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，具有優異的蝕刻速率和選擇性，也可應用於半導體/LCD製程中。