NF3

常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，为一种强氧化剂。在微电子工业中是一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，具有优异的蚀刻速率和选择性，也可应用于半导体/LCD制程中。